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产品详情
SSECwet单片湿法设备
SSECwet单片式湿法处理器,3300,3302,3303单腔室至多腔室,全自动剥离,清洗,去胶等湿法工艺

SSEC wet 单片式湿法工艺处理器,广泛应用于化合物半导体、微机电(MEMS)和先进封装领域。在世界知名的半导体大厂和国内诸多研究单位,都有较高的知名度和良好的客户应用体验。

 

晶圆应用尺寸:Ø  2” ~12”

 

晶圆应用材料: Ø  硅片, 砷化鎵, 磷化銦, 碳化硅, 陶瓷, 玻璃

 

工艺应用范围

Ø  清洗

Ø  刻蚀

Ø  去胶

Ø  高压剥离

Ø  硅片减薄

Ø  匀胶

Ø  显影

 

应用领域:

Ø  前道制程(FEOL)

Ø  后道制程(BEOL)

Ø  先进封裝 (Advanced package)

Ø  微机电MEMS

Ø  化合物半导体

Ø  (II-VI, III-V, GaAs, InP,LED)

Ø  掩模板制程(Mask)

 

 

脚注信息

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